日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2019年3月16日(土) 13:30 〜 17:40 I2 (10号館 (1F) 1012)

1I2-28~1I2-33 西 弘泰
1I2-35~1I2-40 田代 省平
1I2-42~1I2-47 山内 美穂
1I2-49~1I2-52 亀山 達矢

午後

15:50 〜 16:00

[1I2-42] コロイダルリソグラフィによるポリスチレン薄膜へのパターニング:紫外線の光量と溶媒の影響

口頭A講演

○金子 梨乃・伊村 芳郎・王 可瑄・河合 武司 (東理大工)

PC接続時間:15:40~15:50

キーワード:薄膜パターニング、コロイダルリソグラフィ、ポリスチレン、紫外線照射

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