日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2019年3月16日(土) 13:30 〜 17:40 I2 (10号館 (1F) 1012)

1I2-28~1I2-33 西 弘泰
1I2-35~1I2-40 田代 省平
1I2-42~1I2-47 山内 美穂
1I2-49~1I2-52 亀山 達矢

午後

16:10 〜 16:20

[1I2-44] コロイダルリソグラフィによるポリスチレン薄膜への銀ナノ粒子のパターニング

口頭A講演

○曽根 義宏・河合 武司 (東理大工)

PC接続時間:15:40~15:50

キーワード:コロイダルリソグラフィ、ポリスチレン薄膜、紫外線光、シリカ粒子、銀ナノ粒子

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