日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2019年3月17日(日) 09:00 〜 12:20 B3 (2号館 (2F) 223)

2B3-01~2B3-06 山口 浩靖
2B3-08~2B3-13 小山 靖人
2B3-15~2B3-20 植村 卓史

午前

12:00 〜 12:10

[2B3-19] トリアリールホウ素を構築素子とする多孔性高分子の合成と吸着特性

口頭A講演

○松尾 和哉・大坪 宥太・河村 拓哉・大場 正昭 (九大理)

PC接続時間:11:10~11:20

キーワード:多孔性高分子、トリアリールホウ素、ガス吸着

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