日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2019年3月17日(日) 09:00 〜 12:20 B3 (2号館 (2F) 223)

2B3-01~2B3-06 山口 浩靖
2B3-08~2B3-13 小山 靖人
2B3-15~2B3-20 植村 卓史

午前

12:10 〜 12:20

[2B3-20] シリカ表面へのフェニルアゾメチンデンドロンの固定化と金属集積

口頭A講演

○鬼塚 弥里・アルブレヒト 建・山元 公寿 (東工大化生研・JST-ERATO)

PC接続時間:11:10~11:20

キーワード:フェニルアゾメチン、デンドリマー、ナノ粒子

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