日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

高分子

高分子

2019年3月17日(日) 13:30 〜 17:40 B3 (2号館 (2F) 223)

2B3-28~2B3-33 遊佐 真一
2B3-35~2B3-40 須賀 健雄
2B3-42~2B3-46 大塚 英幸
2B3-49~2B3-52 大場 正昭

午後

15:30 〜 15:40

[2B3-40] 水素結合による力学的な共有結合切断の活性化

口頭A講演

○木田 淳平・青木 大輔・大塚 英幸 (東工大物質理工)

PC接続時間:14:30~14:40

キーワード:メカノケミストリー、水素結合、蛍光発光、ウレア、共有結合切断

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