ペプチド鎖含有ニトリル<I>N</I>-オキシドの合成とそれを用いる高分子の修飾

講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

高分子

2019年3月17日(日) 13:30 〜 17:40 B3 (2号館 (2F) 223)

2B3-28～2B3-33 遊佐真一
2B3-35～2B3-40 須賀健雄
2B3-42～2B3-46 大塚英幸
2B3-49～2B3-52 大場正昭

午後

16:00 〜 16:10

[2B3-43] ペプチド鎖含有ニトリルN-オキシドの合成とそれを用いる高分子の修飾

○池田立人・中薗和子・高田十志和 (東工大物質理工・東工大物質理工)

PC接続時間：15:40～15:50

キーワード：ニトリルN-オキシド、高分子修飾、ペプチド、無触媒クリック反応

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