日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

材料化学

材料化学

2019年3月17日(日) 09:00 〜 12:00 G1 (3号館 (6F) 361)

2G1-01~2G1-05 郡司 天博
2G1-08~2G1-12 小林 範久
2G1-14~2G1-18 田中 一生

午前

11:50 〜 12:00

[2G1-18] チタニアとホスホン酸を有するシリコーンからなる光応答性セルフクリーニングフィルムの調製とその特性

口頭A講演

○中本 航・速水 良平・山本 一樹・郡司 天博 (東理大理工)

PC接続時間:11:00~11:10

キーワード:光触媒、セルフクリーニングフィルム、シリコーン

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