日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

材料化学

材料化学

2019年3月17日(日) 13:10 〜 16:20 G1 (3号館 (6F) 361)

2G1-26~2G1-30 水谷 義
2G1-33~2G1-37 緒明 佑哉
2G1-40~2G1-44 望月 大

午後

13:10 〜 13:20

[2G1-26] かご型シルセスキオキサンを修飾したジアリールエテンの合成と光応答性

口頭A講演

○鍜治屋 良太・井川 華子・榊原 晟矢・東口 顕士・松田 建児・和田 宏明・黒田 一幸・下嶋 敦 (早大院先進理工・早大材研・京大院工)

PC接続時間:13:00~13:10

キーワード:かご型シルセスキオキサン、ジアリールエテン、フォトクロミズム

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