日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2019年3月17日(日) 13:00 〜 17:20 I1 (10号館 (1F) 1011)

2I1-25~2I1-29 原田 雅史
2I1-32~2I1-37 酒井 俊郎
2I1-39~2I1-44 吉村 倫一
2I1-46~2I1-50 野々村 美宗

午後

15:50 〜 16:00

[2I1-42] 布に付着したトリグリセリドの洗浄技術の開発

口頭A講演

○竹田 圭佑・小寺 孝範・酒井 俊郎 (信州大工・花王)

PC接続時間:15:10~15:20

キーワード:洗浄技術、トリグリセリド、布、オレイルアルコール、超音波

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