日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2019年3月17日(日) 13:00 〜 17:20 I2 (10号館 (1F) 1012)

2I2-25~2I2-30 小林 浩和
2I2-32~2I2-37 鶴岡 孝章
2I2-39~2I2-44 伊藤 喜光
2I2-46~2I2-50 川﨑 英也

午後

13:20 〜 13:30

[2I2-27] シリカコート金ナノロッドの分散性と熱安定性

口頭A講演

○新森 英之・徳丸 佳奈・望月 ちひろ (山梨大院医工)

PC接続時間:12:50~13:00

キーワード:金ナノロッド、シリカコーティング、コロイド分散性、熱安定性

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