日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2019年3月18日(月) 09:00 〜 12:20 I1 (10号館 (1F) 1011)

3I1-01~3I1-06 一川 尚広
3I1-08~3I1-12 越智 里香
3I1-15~3I1-20 高島 義徳

午前

09:30 〜 09:40

[3I1-04] ホスト-ゲスト相互作用によって架橋されたポリロタキサンを含む迅速に自己修復する材料

口頭A講演

○小林 裕一郎・高島 義徳・山口 浩靖・原田 明 (阪大院理)

PC接続時間:08:50~09:00

キーワード:ポリロタキサン、ホストーゲスト相互作用、シクロデキストリン、自己修復

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