日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2019年3月18日(月) 13:30 〜 17:00 I1 (10号館 (1F) 1011)

3I1-28~3I1-33 岡本 行広
3I1-35~3I1-39 飯村 兼一
3I1-42~3I1-48 河合 武司

午後

14:10 〜 14:20

[3I1-32] ポリジメチルシロキサンを一成分として含む混合単分子膜の表面特性と構造

口頭A講演

○小林 真史・飯村 兼一・井上 賀美・宮前 孝行 (宇都宮大院工)

PC接続時間:13:20~13:30

キーワード:ポリジメチルシロキサン、単分子膜、接触角、X線反射率、原子間力顕微鏡

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