14:20 〜 14:30
[3I1-33] フッ化炭素修飾ナノダイヤモンドの溶媒中ナノ分散挙動と界面粒子膜形成
口頭A講演
PC接続時間：13:20～13:30
キーワード：ナノダイヤモンド、有機修飾、溶媒中ナノ分散、界面粒子膜形成、フッ素化炭素鎖
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アカデミック・プログラム（AP）
コロイド・界面化学
2019年3月18日(月) 13:30 〜 17:00 I1 (10号館 (1F) 1011)
3I1-28～3I1-33 岡本 行広
3I1-35～3I1-39 飯村 兼一
3I1-42～3I1-48 河合 武司
午後
14:20 〜 14:30
PC接続時間：13:20～13:30
キーワード：ナノダイヤモンド、有機修飾、溶媒中ナノ分散、界面粒子膜形成、フッ素化炭素鎖
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