日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

コロイド・界面化学

コロイド・界面化学

2019年3月18日(月) 13:30 〜 17:00 I1 (10号館 (1F) 1011)

3I1-28~3I1-33 岡本 行広
3I1-35~3I1-39 飯村 兼一
3I1-42~3I1-48 河合 武司

午後

16:10 〜 16:30

[3I1-44] GHz周波数帯の交流電場刺激によるリポソーム膜特性と機能の制御

口頭B講演

○田内 敦士・菅 恵嗣・岡本 行広・馬越 大 (阪大院基礎工)

PC接続時間:15:40~15:50

キーワード:リポソーム、交流電場、分子吸着、不斉認識、膜特性

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