日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

触媒

触媒

2019年3月19日(火) 13:00 〜 15:50 B1 (2号館 (2F) 221)

4B1-25~4B1-29 山口 和也
4B1-31~4B1-34 高谷 光
4B1-36~4B1-41 小河 脩平

午後

14:00 〜 14:10

[4B1-31] 銅-ニトロキシル触媒によるN-メチルアミンの位置選択的α-酸素化反応

口頭A講演

○中井 諭・鈴木 康介・笹野 裕介・岩渕 好治・水野 哲孝・山口 和也 (東大院工)

PC接続時間:13:50~14:00

キーワード:銅、ニトロキシルラジカル、アミン、酸素化、ホルムアミド

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