金属イオンドープ高分子上におけるMOF膜形成プロセスの解析

講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

錯体化学・有機金属化学

2019年3月19日(火) 09:00 〜 12:10 C2 (3号館 (2F) 322)

4C2-01～4C2-05 猪股智彦
4C2-08～4C2-13 篠田哲史
4C2-15～4C2-19 張浩徹

午前

11:40 〜 11:50

[4C2-17] 金属イオンドープ高分子上におけるMOF膜形成プロセスの解析

○畠茉奈美・大橋卓史・髙嶋洋平・赤松謙祐・鶴岡孝章 (甲南大FIRST)

PC接続時間：11:10～11:20

キーワード：金属有機構造体、成長過程、界面反応

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