日本化学会 第99春季年会 (2019)

講演情報

アカデミック・プログラム(AP)

錯体化学・有機金属化学

錯体化学・有機金属化学

2019年3月19日(火) 13:30 〜 15:30 C2 (3号館 (2F) 322)

4C2-28~4C2-33 石川 直人
4C2-35~4C2-38 小西 克明

午後

13:50 〜 14:10

[4C2-30] 和周波発生分光法による水溶液表面に形成した金属錯体の研究

口頭B講演

○日下 良二・Schnaars Kathleen・渡邉 雅之 (原子力機構基礎工)

PC接続時間:13:20~13:30

キーワード:表面・界面、溶媒抽出、和周波発生、ランタノイド、振動分光法

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