かさ高いRind基を有するジハロジテトレンの反応

講演情報

アカデミック・プログラム（AP）

錯体化学・有機金属化学

2019年3月19日(火) 09:00 〜 12:20 D1 (3号館 (3F) 331)

4D1-01～4D1-05 南条真佐人
4D1-08～4D1-13 坂本健吉
4D1-15～4D1-20 中田憲男

午前

12:10 〜 12:20

[4D1-20] かさ高いRind基を有するジハロジテトレンの反応

○大野稜真・小中重明・沼田泰幸・早川直輝・ROSAS-SANCHEZ Alfredo・橋爪大輔・松尾司 (近畿大院総理工)

PC接続時間：11:10～11:20

キーワード：ケイ素、縮環型立体保護基、不飽和化合物、ジシレン

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