We-P: Poster-2

△ [WeP-21] Reduction of crystal defects in GaP buffer layers grown on Si(100) by MOCVD

*Manali Nandy¹, Agnieszka Paszuk², Markus Feifel³, Christian Koppka⁴, Peter Kleinschmidt⁵, Frank Dimroth⁶, Thomas Hannappel⁷ (1. Technische Universität Ilmenau (TU Ilmenau), 2. Technische Universität Ilmenau (TU Ilmenau), 3. Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems ISE, 4. Technische Universität Ilmenau (TU Ilmenau), 5. Technische Universität Ilmenau (TU Ilmenau), 6. Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems ISE, 7. Technische Universität Ilmenau (TU Ilmenau))