The 85th ECSJ Spring Meeting

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S10. キャパシタ技術の新しい展開

【キャパシタ技術の新しい展開】
セッション5(一般講演3)

Fri. Mar 9, 2018 2:30 PM - 3:45 PM T会場 (講義棟507号室)

座長:内田 悟史(関西大学)

主催:キャパシタ技術委員会

3:00 PM - 3:15 PM

[1T11] RuO2/H2O界面の擬キャパシタ反応における表面電荷移動反応の理論的解析

〇渡部 絵里子1、牛山 浩1、山下 晃一1、森川 裕介1、朝倉 大輔2、大久保 將史1、山田 淳夫1 (1. 東京大学、2. 産業技術総合研究所)