電気化学基礎3（一般講演3）

[1M08] 高磁場の下でのフェリシアンイオン・フェロシアンイオン酸化還元反応におけるイオン空孔の対消滅

〇杉山 敦史^1,2,3、三浦 誠⁴、押切 剛伸⁵、森本 良一⁶、三浦 美紀⁷、逢坂 哲彌²、茂木 巖⁸、山内 悠輔^3,9、青柿 良一¹⁰ (1. 吉野電化工業株式会社、2. 早稲⽥⼤学ナノ・ライフ創新研究機構、3. 物質･材料研究機構、4. 北海道職業能⼒開発⼤学校、5. ⼭形県⽴産業技術短期⼤学校、6. 埼⽟県産業技術総合センター、7. ポリテクセンター君津、8. 東北⼤学⾦属材料研究所、9. クィーンズランド大学、10. 職業能⼒開発総合⼤学校)