S19会場

S19.電子材料及びナノ機能素子

セッション2 (学生講演)

Tue. Mar 28, 2023 8:45 AM - 10:15 AM S19 (9号館935教室)

座長:上野和良(芝浦工業大学)【現地参加】

主催：電子材料委員会

+Add all to schedule

8:45 AM - 9:00 AM

[2U01(大会学生会員講演)] 窒素プラズマ処理した銅表面の耐湿性

【オンライン参加】

〇中島駿¹、柏原大輝²、上野和良^1,2,3 (1. 芝浦業大学大学院　理工学研究科、2. 芝浦工業大学、3. SIT ｸﾞﾘｰﾝｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ国際研究ｾﾝﾀｰ)

9:00 AM - 9:15 AM

[2U02(大会学生会員講演)] TSVに対応したCoWBバリア膜上の直接Cu電解めっき技術

【オンライン参加】

〇陳少韓¹、白岩直哉¹、清水智弘¹、伊藤健¹、新宮原正三¹ (1. 関西大学)

9:15 AM - 9:30 AM

[2U03(大会学生会員講演)] シリコン貫通電極におけるめっき進展観察のためのマイクロ流体デバイス

【オンライン参加】

〇関大雅¹、秋田貴誉¹、早瀬仁則¹ (1. 東京理科大学)

9:30 AM - 9:45 AM

[2U04(大会学生会員講演)] 触媒薄膜パターンを用いたn型およびp型シリコンの金属援用エッチングーメソポーラス層の分布の違いー

【現地参加】

〇西中凜¹、東恭平¹、橋口逹希¹、松本歩¹、八重真治¹ (1. 兵庫県立大学)

9:45 AM - 10:00 AM

[2U05(学生講演)] ハイブリッド接合表面形成過程におけるCu表面の評価

【現地参加】

〇中山航平¹、岩田知也¹、蛯子颯大¹、井上史大¹ (1. 横浜国立大学)

10:00 AM - 10:15 AM

[2U06(大会学生会員講演)] ニッケル薄膜抵抗の膜厚依存性と熱的安定性

【現地参加】

〇古結敦也¹、上野和良^1,2 (1. 芝浦工業大学大学院　理工学研究科、2. SIT ｸﾞﾘｰﾝｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ国際研究ｾﾝﾀｰ)

Session information

セッション2 (学生講演)

[2U01(大会学生会員講演)] 窒素プラズマ処理した銅表面の耐湿性

【オンライン参加】

[2U02(大会学生会員講演)] TSVに対応したCoWBバリア膜上の直接Cu電解めっき技術

【オンライン参加】

[2U03(大会学生会員講演)] シリコン貫通電極におけるめっき進展観察のためのマイクロ流体デバイス

【オンライン参加】

[2U04(大会学生会員講演)] 触媒薄膜パターンを用いたn型およびp型シリコンの金属援用エッチングーメソポーラス層の分布の違いー

【現地参加】

[2U05(学生講演)] ハイブリッド接合表面形成過程におけるCu表面の評価

【現地参加】

[2U06(大会学生会員講演)] ニッケル薄膜抵抗の膜厚依存性と熱的安定性

【現地参加】

Authentication

Session information

セッション2 (学生講演)

[2U01(大会学生会員講演)] 窒素プラズマ処理した銅表面の耐湿性

【オンライン参加】

[2U02(大会学生会員講演)] TSVに対応したCoWBバリア膜上の直接Cu電解めっき技術

【オンライン参加】

[2U03(大会学生会員講演)] シリコン貫通電極におけるめっき進展観察のためのマイクロ流体デバイス

【オンライン参加】

[2U04(大会学生会員講演)] 触媒薄膜パターンを用いたn型およびp型シリコンの金属援用エッチング ーメソポーラス層の分布の違いー

【現地参加】

[2U05(学生講演)] ハイブリッド接合表面形成過程におけるCu表面の評価

【現地参加】

[2U06(大会学生会員講演)] ニッケル薄膜抵抗の膜厚依存性と熱的安定性

【現地参加】

Authentication

[2U04(大会学生会員講演)] 触媒薄膜パターンを用いたn型およびp型シリコンの金属援用エッチングーメソポーラス層の分布の違いー