次世代電子デバイス材料（３）

[S19_1_08(一般講演)] 不純物ドープによりシリコン窒化膜に生成した点欠陥の電荷捕獲現象とカソードルミネッセンス

〇小林 清輝¹、古性 圭亮¹、杉江 隆一² (1. 東海大学、2. 東レリサーチセンター)