InAs Surface Quantum Dot Passivation with Self-Clean-Up: Diethylzinc vs. Trimethylaluminum for Atomic Layer Deposition

Hanif Mohammadi

講演情報

Oral presentation

Heterostructures and Nanostructures

2024年9月9日(月) 17:00 〜 18:15 International Conference Hall (Hall A) (3F)

Chair:Kouichi Akahane(National Institute of Information and Communications Technology, Japan)

18:00 〜 18:15

[MO-A4-05] InAs Surface Quantum Dot Passivation with Self-Clean-Up: Diethylzinc vs. Trimethylaluminum for Atomic Layer Deposition

〇Hanif Mohammadi¹, Ronel Christian Roca¹, Hyunju Lee², Yoshio Ohshita¹, Naotaka Iwata¹, Itaru Kamiya¹ (1. TOYOTA TECHNOLOGICAL INSTITUTE (Japan), 2. Meiji Univ. (Japan))

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。