Oral Presentation
01: Optical Design, Optical Materials, and Photo Lithography
2017年8月22日(火) 09:30 〜 11:10 Room B (MITAKE) (42F)
Session Chair:H. Tatsuno(RICOH Company, Ltd.), K. Konno(Konika Minolta Inc.)
09:30 〜 10:10
○M. Totzeck 1 (1.Carl Zeiss AG (Germany))
スケジュール
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10:10 〜 10:40
○C.-C. Sun 1, X.-H. Lee 1, T.-H. Yang 1, T.-Y. Chung 1, Y.-W. Yu 1 (1.National Central Univ. (Taiwan))
スケジュール
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10:40 〜 10:55
○W.W. Cong 1 (1.Shandong Institute of Aerospace Electronic Technology (China))
スケジュール
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10:55 〜 11:10
○T.T. Pham 1, H.N. Vu 1, S. Shin 1 (1.Myongji Univ. (Korea))
スケジュール
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