Oral Presentation
01: Optical Design, Optical Materials, and Photo Lithography
2017年8月22日(火) 13:00 〜 15:00 Room B (MITAKE) (42F)
Session Chair:M. Shibuya(Tokyo Polytechnic Univ.), C.W. Liang(National Central Univ.)
13:00 〜 13:30
○Y. Suzuki 1 (1.Olympus Corp. (Japan))
スケジュール
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13:30 〜 14:00
○L. Tian 1 (1.Boston Univ. (USA))
スケジュール
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14:00 〜 14:15
○K. Mori 1, K.J. Lee 2, Y.H. Ko 2, D. Carney 2, R. Magnusson 2, K. Kintaka 3, J. Inoue 1, S. Ura 1 (1.Kyoto Inst. Tech. (Japan), 2.Univ. Texas Arlington (USA), 3.AIST (Japan))
スケジュール
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14:15 〜 14:30
○T. Kobayashi 1, J. Du 2, Z. Liu 2, Y. Leng 2, Z. Hu 3, X. Tang 3, M. Zhou 3 (1.The Univ. of Electro-Communications (Japan), 2.Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics (China), 3.Chongqing Univ. (China))
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14:30 〜 14:45
○S.S. Tan 1,2, K. Inagaki 1, S. Yanagisawa 4, M.B. Kassim 2,3, Y. Morikawa 1 (1.Osaka Univ. (Japan), 2.Univ. Kebangsaan Malaysia (Malaysia), 3.Fuel Cell Inst., Univ. Kebangsaan Malaysia (Malaysia), 4.Univ. of the Ryukyus (Japan))
スケジュール
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14:45 〜 15:00
○C. Pang 1, X.W. Liu 1, M.H. Zhuge 1, C.F. Kuang 1, M.G. Somekh 2, Q. Yang 1,3 (1.Univ. of Zhejiang (China), 2.Hong Kong Polytechnic Univ. (China), 3.Univ. of Shanxi (China))
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