ICP2023

講演情報

Poster

Joint-1

P26

2023年7月26日(水) 17:10 〜 19:40 Poster (Poster)

17:10-18:25 Odd-Numbered Presentation Time
18:25-19:40 Even-Numbered Presentation Time

17:10 〜 19:40

[P26-039] Sulfonium-Functionalized Polystyrene Based Non-chemically Amplified Resists Enabling sub-13 nm Nanolithography

*Jinping Chen1, Zhihao Wang1, Yi Li1 (1. Technical Institute of Physics and Chemistry, Chinese Academy of Sciences (China))

キーワード:non-chemically amplified resists, sulfonium functionalized polystyrene, electron beam lithography, extreme ultraviolet lithography

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。

パスワード