ICSCRM2019

セッション情報

Oral Presentation

MOS Gate Stacks and Device Processing

[Mo-2A] Oxidation and Nitridation

2019年9月30日(月) 14:15 〜 15:30 Room A (Kyoto International Conference Center)

14:45 〜 15:00

*Xiuyan Li1,2, Mengjun Li2, Tianning Cui1, Sang Soo Lee3, Sylvie Rangan2, Alexi Aermakov2, Timothy T. Fister3, Torgny Gustfsson2, Eric Garfunkel2, Paul Fenter3, Leonard C. feldman2 (1. Shanghai Jiao Tong Univ.(China), 2. Rutgers Univ.(United States of America), 3. Argonne National Lab.(United States of America))

×

認証

×

要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン