14:15 〜 14:30
*Tae-Hyeon Kil1, Koji Kita1 (1. Univ. of Tokyo(Japan))
Oral Presentation
MOS Gate Stacks and Device Processing
2019年9月30日(月) 14:15 〜 15:30 Room A (Kyoto International Conference Center)
14:15 〜 14:30
*Tae-Hyeon Kil1, Koji Kita1 (1. Univ. of Tokyo(Japan))
14:30 〜 14:45
*Nannan You1,2, Shengkai Wang1,2, Jilong Hao1,2, Yun Bai1,2, Xinyu Liu1,2 (1. Institute of Microelectronics of the Chinese Academy of Sciences(China), 2. University of Chinese Academy of Sciences(China))
14:45 〜 15:00
*Xiuyan Li1,2, Mengjun Li2, Tianning Cui1, Sang Soo Lee3, Sylvie Rangan2, Alexi Aermakov2, Timothy T. Fister3, Torgny Gustfsson2, Eric Garfunkel2, Paul Fenter3, Leonard C. feldman2 (1. Shanghai Jiao Tong Univ.(China), 2. Rutgers Univ.(United States of America), 3. Argonne National Lab.(United States of America))
15:00 〜 15:15
*Koichi Murata1, Daisuke Mori2, Aki Takigawa2, Hidekazu Tsuchida1 (1. Central Research Institute of Electric Power Industry (CRIEPI)(Japan), 2. Fuji Electric Co., Ltd.(Japan))
15:15 〜 15:30
*Keita Tachiki1, Tsunenobu Kimoto1 (1. Kyoto Univ.(Japan))
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