13:45 〜 14:15
*Koji Ito1, Takuma Kobayashi1, Tsunenobu Kimoto1 (1. Kyoto Univ.(Japan))
Oral Presentation
MOS Gate Stacks and Device Processing
2019年10月1日(火) 13:45 〜 15:45 Room A (Kyoto International Conference Center)
13:45 〜 14:15
*Koji Ito1, Takuma Kobayashi1, Tsunenobu Kimoto1 (1. Kyoto Univ.(Japan))
14:15 〜 14:30
*Hironori Yoshioka1 (1. National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)(Japan))
14:30 〜 14:45
*Judith Woerle1,2, Thomas Prokscha2, Ulrike Grossner1 (1. ETH Zurich(Switzerland), 2. Paul Scherrer Institute(Switzerland))
14:45 〜 15:00
*James A Cooper1 (1. Sonrisa Research, Inc. and Purdue University(United States of America))
15:00 〜 15:15
*Kohei Yamasue1, Yuji Yamagishi1, Yasuo Cho1 (1. Tohoku Univ.(Japan))
15:15 〜 15:30
*Junichiro Sameshima1, Aya Takenaka1, Yuichi Muraji1, Yoshihiko Nakata1, Masanobu Yoshikawa1, Katsumasa Suganuma2 (1. Toray Research Center, Inc.(Japan), 2. Osaka Univ.(Japan))
15:30 〜 15:45
*Xufang Zhang1, Dai Okamoto1, Mitsuru Sometani2, Shinsuke Harada2, Noriyuki Iwamuro1, Hiroshi Yano1 (1. Tsukuba Univ.(Japan), 2. AIST(Japan))
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