講演情報

予告セッション

高温プロセス

酸化物/金属界面における高温物理化学のフロンティア1

2021年9月3日(金) 09:20 〜 10:40 会場2

座長:中本将嗣 [阪大]

会議に参加する

10:00 〜 10:20

[37] 厚板に形成する酸化スケール中のSi濃化層の熱抵抗評価

^○遠藤理恵¹, 篠原彩織¹, 八木貴志², 阿子島めぐみ², 須佐匡裕¹ (1.東工大, 2.産総研)

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