ISSP2024

講演情報

Oral Presentation

1.Fundamentals of Sputtering and Plasma Processes

Oral Session FS1

2024年7月3日(水) 10:40 〜 12:30 Room O (Science Hall)

11:50 〜 12:10

[TH2-03] Continuous pulse-resolved spectroscopic and electrical plasma monitoring in HIPIMS and pulsed sputtering applications

*Thomas Schütte1, Peter Neiß1, Marius Radloff1, Hokuto Kikuchi1 (1. PLASUS GmbH)

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