16:20 〜 16:40
[SP2-05] A comparative study of Zr-O2, Zr-N2, Zr-CH4, and Zr-CF4 direct current reactive magnetron sputtering discharge characteristics
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Oral Presentation
2.Sputtering and Plasma Process Technologies
2024年7月5日(金) 14:50 〜 16:40 Room O (Science Hall)
16:20 〜 16:40
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