IVC-22

講演情報

Parallel Sessions

Plasma Science and Technologies

[Mon-H1] Plasma Science and Technologies

2022年9月12日(月) 13:15 〜 15:15 Room H (Meeting Room 204)

13:15 〜 13:45

[Mon-H1-1I] Latest Understanding of rf-driven Electronegative Plasma Source

*Toshiaki Makabe1 (1. Keio University (Japan))

キーワード:Electronegative plasma, capacitively coupled plasma, dry plasma etching, plasma modeling, diagnostics by emission CT

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