スケジュール 3 11:30 〜 11:45 [3105] スラグ-CH硬化体の空隙構造に及ぼす促進剤添加の影響 伊藤 貴康1、*原田 奏也1、大崎 雅史1、新 大軌2 (1. 宇部興産株式会社 技術開発研究所、2. 島根大学 学術研究院 環境システム科学系) キーワード：高炉スラグ、促進剤、空隙分布 パスワード認証オンライン会場にアクセスするには参加パスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。 パスワード 認証
