第76回セメント技術大会

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一般講演

セメント系新材料

Fri. May 20, 2022 9:45 AM - 11:30 AM 第3会場 (301)

座長 大宅 淳一(日本大学), 黒川 大亮(太平洋セメント株式会社)

10:30 AM - 10:45 AM

[3304] 煆焼アロフェンを用いた新たなセメント系材料の設計に関する検討

*近藤 祥太1、斎藤 豪2、鈴木 一帆1、伊藤 貴康3 (1. 新潟大学 大学院 自然科学研究科 環境科学専攻、2. 新潟大学 工学部 社会基盤工学プログラム、3. 宇部興産株式会社 技術開発研究所)

Keywords:SCMs、アロフェン、煆焼、ペースト強度、ストラトリンガイト、C-S-H

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