日本金属学会 2019年秋期(第165回)講演大会

講演情報

一般講演

5.材料化学 » 表面・界面

[G] 触媒

2019年9月13日(金) 09:15 〜 11:50 P会場 (一般教育棟D棟5階D52)

座長:9:15~高橋 弘樹(秋田大学)、10:10~森浩亮(大阪大学)、11:05~藤田武志(高知工科大)

09:30 〜 09:45

[424] ギ酸脱水素化反応における軽元素置換グラフェン担持Cuクラスターの触媒活性

*寺崎 僚晃1、國貞 雄治2、坂口 紀史2 (1. 北大工(院生)、2. 北大工)

キーワード:ギ酸、Cuクラスター触媒、DFT計算、グラフェン、水素貯蔵

ギ酸は安全で高効率な水素貯蔵材料として期待されているが、反応選択性と触媒コストが課題である。本研究はより安価かつ高性能な触媒としてCuとグラフェン担体に着目し、DFT計算を用いて触媒性能を調査した。

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