2019 Fall Annual(165th) Meeting

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General Session

3.Microstructures » Analysis/Characterization/Evaluation

[G] Microstructure Observations and Analyses

Fri. Sep 13, 2019 1:00 PM - 3:10 PM B (C25 at 2nd Flr. Building C for General Education)

座長:保田英洋(大阪大学)、奥田 浩司(京都大学)

2:10 PM - 2:25 PM

[48] フォトン照射による電子励起反応を用いたRuシリサイドの形成

*FURUKAWA Daiki1, ICHIKAWA Shuhei2, SATO Kazuhisa2, IMAMURA Masaki3, TAKAHASHI Kazutoshi3, YASUDA Hidehiro2 (1. 阪大工(院生)、2. 阪大電顕センター、3. 佐賀大学シンクロトロン)

Keywords:シンクロトロン光光電子分光、ルテニウム、シリサイド、電子励起

HOPG基板上に作製したSiOx/Ru/SiOx構造へ500、560 eVのシンクロトロン光を照射し、光電子分光によってRuシリサイド形成の有無を評価した。O1s内殻電子の励起がRuシリサイド形成に寄与していることが示唆された。

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