[G] 組織・観察・分析

[48] フォトン照射による電子励起反応を用いたRuシリサイドの形成

*古川 大希¹、市川 修平²、佐藤 和久²、今村 真幸³、高橋 和敏³、保田 英洋² (1. 阪大工(院生)、2. 阪大電顕センター、3. 佐賀大学シンクロトロン)

キーワード：シンクロトロン光光電子分光、ルテニウム、シリサイド、電子励起

HOPG基板上に作製したSiO_x/Ru/SiO_x構造へ500、560 eVのシンクロトロン光を照射し、光電子分光によってRuシリサイド形成の有無を評価した。O1s内殻電子の励起がRuシリサイド形成に寄与していることが示唆された。