日本金属学会 2019年秋期(第165回)講演大会

講演情報

一般講演

6.材料プロセシング » 溶融・凝固プロセス 高温プロセス

[G] 高温プロセス・物質創製

2019年9月12日(木) 13:00 〜 14:55 A会場 (一般教育棟C棟2階C22)

座長:鈴木 寿穂(日本製鉄株式会社)、友重 竜一(崇城大学)

13:00 〜 13:15

[8] CS2ガス硫化によるSiS2の作成

八島 悠太1,2、*鈴木 亮輔1、金子 拓実1、Eltefat Ahmadi1、渡邉 貴史3、野上 玄器3 (1. 北大工(院生)、、2. JR東海、3. 三菱ガス化学)

キーワード:硫化シリコン、合成、二硫化炭素、昇華、気相合成

CS2ガスを用いてSiと反応させて、SiS2の融点以下の1273 KでSiS2単相の合成に成功した。Si源としてSiC, Si3N4, Al-Si合金液体を検討した。

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。

パスワード