日本金属学会 2019年秋期(第165回)講演大会

講演情報

KIM-JIMシンポジウム

[KJS] 20th KIM-JIM シンポジウム Energy Storage Materials

2019年9月11日(水) 10:00 〜 17:10 D会場 (一般教育棟D棟1階D12)

座長:小島 由継(広島大学)、Cho Young Whan、高村 仁(東北大学)、Cho Eun Seon、西村 睦(国立研究開発法人 物質・材料研究機構)、Cho Moon-Ho

16:00 〜 16:20

[KJS14] Directly Assembled 3D Molybdenum Disulfide on Silicon Wafer for Efficient Photoelectrochemical Water Reduction

Jin Gangtae1、Lee Chang-Soo1、Andoshe Dinsefa Mensur2、Jang Ho Won2、*Jo Moon-Ho1 (1. Pohang University of Science and Technology (POSTECH), Korea、2. Seoul National University, Korea)

キーワード:3D molybdenum disulfide、hydrogen evolution reaction catalysts、metal–organic chemical vapor deposition、solar water splitting

By controlling the gas phase kinetics during metal–organic chemical vapor deposition, wafer-scale direct synthesis of 3D MoS2 films on TiO2-coated p-type Si substrates is demonstrated. The 3D MoS2 layer with a number of edge sites exposed to ambient substantially reduces the HER overpotential of Si photocathode and simultaneously increases the saturation current density due to the antireflection effect. Directly grown 3D MoS2 thin films are stable under extended water reduction duration.

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