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[P121] Auを用いたMIC法によるGe薄膜の低温結晶化
キーワード:半導体、薄膜、結晶
MIC法による結晶化機構を解明するために、Au薄膜上にGeをスパッタリングで成膜し、アニール中にXRD測定を行った。その結果、150℃~160℃付近でGe(111)面のピークが増大し、Au(111)面のピークが減少した。
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