2019 Fall Annual(165th) Meeting

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Poster Session

6.Materials Processing » Materials Processing

[P] 6.材料プロセシング

Wed. Sep 11, 2019 3:00 PM - 5:00 PM Poster Session (Okayama University 50th Year Aniversary Bldg.)

3:00 PM - 5:00 PM

[P151] Ni-Al融体表面を反応場とするAlNの結晶成長

*Kanbara Arata1, Adachi Masayoshhi1, Fukuyama Hiroyuki1 (1. 東北大学 多元研)

Keywords:結晶成長、窒化アルミニウム、Ni-Alフラックス

AlNはAlGaN系深紫外LEDの基板材料として最適である.しかしながら,安価なバルクAlN単結晶作製法は確立されていない.本研究ではNi-Alフラックスを用いたバルクAlN結晶の育成法の開発を行っている.

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