日本金属学会 2019年秋期(第165回)講演大会

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ポスターセッション

6.材料プロセシング » 材料プロセシング

[P] 6.材料プロセシング

2019年9月11日(水) 15:00 〜 17:00 ポスターセッション会場 (50周年記念館)

15:00 〜 17:00

[P151] Ni-Al融体表面を反応場とするAlNの結晶成長

*神原 新1、安達 正芳1、福山 博之1 (1. 東北大学 多元研)

キーワード:結晶成長、窒化アルミニウム、Ni-Alフラックス

AlNはAlGaN系深紫外LEDの基板材料として最適である.しかしながら,安価なバルクAlN単結晶作製法は確立されていない.本研究ではNi-Alフラックスを用いたバルクAlN結晶の育成法の開発を行っている.

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