DCマグネトロンスパッタ法によって成膜されたBi2Te3薄膜の熱処理中の昇温時間変化による配向性の制御

3:00 PM - 5:00 PM

[P257] DCマグネトロンスパッタ法によって成膜されたBi2Te3薄膜の熱処理中の昇温時間変化による配向性の制御

*KUROKAWA Takuya¹, MORI Ryotaro¹, SEKI Yuhei¹, KOBAYASHI Akihiro¹, TAKASHIRI Masayuki¹ (1. 東海大院工（院生）)

Keywords:熱電材料、配向性、昇温速度

アルミナ基板上にスパッタ法を用いてBi₂Te₃薄膜を成膜し、熱処理中の昇温変化による配向性および熱電性能を評価した．昇温速度を低下させると配向性が向上し,最大で0.93であった.さらに粒径や熱電性能も評価した.

Abstract password authentication.
Password is required to view the abstract. Please enter a password to authenticate.