DCマグネトロンスパッタ法によって成膜されたBi2Te3薄膜の熱処理中の昇温時間変化による配向性の制御

15:00 〜 17:00

[P257] DCマグネトロンスパッタ法によって成膜されたBi2Te3薄膜の熱処理中の昇温時間変化による配向性の制御

*黒川拓也¹、森凌太郎¹、関侑平¹、小林晃大¹、高尻雅之¹ (1. 東海大院工（院生）)

キーワード：熱電材料、配向性、昇温速度

アルミナ基板上にスパッタ法を用いてBi₂Te₃薄膜を成膜し、熱処理中の昇温変化による配向性および熱電性能を評価した．昇温速度を低下させると配向性が向上し,最大で0.93であった.さらに粒径や熱電性能も評価した.

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