[S5] S5 New Aspect of Materials Science Based on Advanced Nanostructure Analyses(2)

[S5.20] 遺伝的アルゴリズムを用いたシリコン粒界中の炭素偏析サイトの探索

*NODA Yusuke¹, YOKOI Tatsuya¹, NAKAMURA Atsutomo¹, MATSUNAGA Katsuyuki^1,2 (1. 名大工、2. JFCC)

Keywords:シリコン粒界、不純物偏析、理論計算、遺伝的アルゴリズム

材料シミュレーションと遺伝的アルゴリズムを用いて、シリコン粒界中の炭素偏析サイトを探索し、エネルギー的に最安定である炭素偏析構造を求めた。又、シリコン粒界構造と炭素偏析の関係について解析を行った。