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Koubo Symposium

[S6] S6 Tailoring of Nano/Micro-Space for Advanced Functions II

Thu. Sep 12, 2019 9:00 AM - 3:55 PM B (C25 at 2nd Flr. Building C for General Education)

座長:谷本久典(筑波大学)、堀史説(大阪府立大学)、森戸春彦(東北大学)、庭瀬敬右(兵庫教育大学)

3:20 PM - 3:35 PM

[S6.14] Niイオン制御照射によるSiO₂アモルファス中でのナノ粒子合成と特性

*YAMADA Tomoko¹, TAKANO Akihiro¹, SUGITA Kento¹, IWASE Akihiro², MAEKAWA Masaki³, KAWASUSO Atsuo³, HORI Fuminobu² (1. 大阪府大工（院生）、2. 大阪府大工、3. 量研機構高崎)

Keywords:ナノ粒子、照射効果、光吸収

固体中へNiイオンを照射し，ナノ粒子を合成した．照射イオンのエネルギーと照射量をパラメータとして合成するナノ粒子の構造や形態などの制御を試みた．それぞれの条件でのナノ粒子の光吸収などについて評価した．

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