日本金属学会 2019年秋期(第165回)講演大会

講演情報

公募シンポジウム講演

[S6] S6 ナノ・マイクロスペーステイラリングⅡ

2019年9月12日(木) 09:00 〜 15:55 B会場 (一般教育棟C棟2階C25)

座長:谷本 久典(筑波大学)、堀 史説(大阪府立大学)、森戸 春彦(東北大学)、庭瀬 敬右(兵庫教育大学)

15:20 〜 15:35

[S6.14] Niイオン制御照射によるSiO2アモルファス中でのナノ粒子合成と特性

*山田 智子1、鷹野 陽弘1、杉田 健人1、岩瀬 彰宏2、前川 雅樹3、河裾 厚男3、堀 史説2 (1. 大阪府大工(院生)、2. 大阪府大工、3. 量研機構高崎)

キーワード:ナノ粒子、照射効果、光吸収

固体中へNiイオンを照射し,ナノ粒子を合成した.照射イオンのエネルギーと照射量をパラメータとして合成するナノ粒子の構造や形態などの制御を試みた.それぞれの条件でのナノ粒子の光吸収などについて評価した.

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