日本金属学会2020年秋期(第167回)講演大会

講演情報

一般講演

6.材料プロセシング » 固相プロセス 固相・溶接プロセス

[G] 固相プロセス 固相・溶接プロセス(1)

2020年9月16日(水) 13:00 〜 15:50 O会場 (ZoomO会場)

座長:小林 竜也(群馬大学)、荘司 郁夫(群馬大学)、苅谷 義治(芝浦工業大学) 副座長(座長補佐):苅谷 義治(芝浦工業大学)、小林 竜也(群馬大学)、荘司 郁夫(群馬大学)

14:50 〜 15:05

[321] 半導体実装構造における層間絶縁膜の剥離解析

*大野 堅太1、苅谷 義治2 (1. 芝浦工大(院生)、2. 芝浦工大)

キーワード:Delamination、Energy release rate、Polymer、Semiconductor Package Structure、Finite element method

半導体用層間絶縁膜と配線材料界面の剥離評価を目的とし,有限要素法解析による配線構造内部の感光性樹脂 / Cu配線界面の剥離判定結果およびき裂進展経路の検討結果について講演する.

要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン