[G] Melting and solidification process/High temperature process(1)

[345] Measurement of diffusion coefficient of silicon ion in molten LiF-KF-KCl

*Taichi Makabe¹, Xin Lu, Osamu Takeda, Hongmin Zhu (1. 東北大工（院生）)

Keywords:シリコンイオン、溶融塩、拡散係数、電気化学

本研究ではスラグを構成するイオンの拡散係数を測定、検討を行い、シリコンが溶融アルカリハライド中のイオンとして通常の水準にあり、溶媒による拘束をあまり強く受けていないことを確認した。